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  • HYPER SCAN-M5日本 DIA-ELEC 超声波探伤多系统设备

    日本 DIA-ELEC 超声波探伤多系统设备 日本 DIA-ELEC HYPER SCAN-M5 超声波探伤多系统,是集成机械扫描机构与超声探伤单元的一体化多通道超声检测设备。可搭载超声探头做自动化平面扫描,实现 A 扫、B 扫、C 扫描成像,能够直观绘制工件内部缺陷二维平面分布图,精准定位气孔、裂纹、分层、脱粘等缺陷。

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    2026-10-10

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  • TOPAZ64日本 DIA-ELEC 相控阵超声波探伤设备

    日本 DIA-ELEC 相控阵超声波探伤设备 32通道或64通道的高性能便携式相控阵,TOPAZ64超声波检测设备能够实现快速且可靠的检测。 适用于PAUT应用的32/64通道处理能力,结合了优良的全矩阵采集技术(FMC)、全聚焦技术(TFM)以及平面波成像技术(PWI)。

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    2026-10-10

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  • SDSⅢ系列日本 KJTD 全数字超声波探伤成像设备

    日本 KJTD 全数字超声波探伤成像设备 日本 KJTD SDSⅢ 系列全数字超声波探伤成像装置,采用全数字化信号处理技术,可将超声回波信号转化为可视化图像,直观呈现试样内部缺陷位置、大小与形态。设备信号采集速度快,信噪比高,支持 A 扫、B 扫成像等多种检测模式,操作软件功能丰富,可保存检测图像与数据,便于追溯分析。

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    2026-10-10

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  • 日本 SHINKA SPM型 棒状超声波清洗机

    日本 SHINKA SPM型 棒状超声波清洗机 日本 SHINKA 新科产业 SPM 型棒状超声波清洗机为投入式棒型超声振动设备,棒状振子可 360° 放射超声波能量,形成均匀声场。可直接放入客户原有清洗槽、反应容器、管路内部使用,无需改造槽体,适合容器内腔、管件内孔的精密清洗。采用钛合金振动体,耐蚀耐用,具备空转保护、定时功能,支持连续 / 脉冲输出模式。

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    2026-10-10

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  • GNES-1001日本 GNES 材料表面声诊机 超声波探伤设备

    日本 GNES 材料表面声诊机 超声波探伤设备 该装置利用沿表面方向传播的横向剪切波脉冲,对常温下各种材料表面层的材质变化进行无损检测、分析与诊断。它能够用于测定金属、陶瓷、聚合物、橡胶等材料表面的材质变化程度,并基于特定的波形变化建立校准曲线,进而评估材料的硬度、疲劳性能、膜厚、老化状况等特性。

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    2026-10-10

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  • 日本JOKOH 常光 NAGS20 高性能超高压均质机

    日本JOKOH 常光 NAGS20 高性能超高压均质机 NAGS20 高性能超高压均质机是日本 JOKOH(常光)研发的高压微射流型均质设备。物料在高压作用下通过特制均质腔,依靠高速撞击、剪切、空化多重效应,实现乳化、分散、破碎,可将粉体 / 液滴加工至纳米级。适合高固含浆料、乳液、混悬液的纳米化处理,采用陶瓷均质阀,耐磨耐蚀,可稳定长时间连续运行。

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    2026-10-09

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  • 日本Filgen 手持式 UV臭氧清洗机 UV253MINI

    日本Filgen 手持式 UV臭氧清洗机 UV253MINI 日本 Filgen UV253MINI 手持式 UV 臭氧清洗机,属于便携小型紫外臭氧清洗设备,依托紫外与臭氧协同氧化原理,快速分解试样表面有机污染物。区别于台式机型,本品为手持轻量化设计,可灵活对准局部样品区域做定点清洗,适用于小试样、局部区域的表面清洁和亲水化改性,广泛应用纳米材料、光学、半导体、生物实验室样品前处理。

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    2026-10-08

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  • 日本 Filgen UV253V8/V8R UV臭氧清洗机

    日本 Filgen UV253V8/V8R UV臭氧清洗机 日本 Filgen UV253V8 / UV253V8R UV 臭氧清洗机,利用双波长紫外线 + 臭氧双重作用,高效清除样品表面有机污染物。设备通过紫外光激发产生臭氧,协同紫外氧化反应,在不损伤基底材料的前提下完成表面有机杂质的分解去除,广泛用于科研实验室、半导体、材料领域基板、试样的表面清洁与改性处理。

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    2026-10-08

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