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  • 日本 OTARI UA‑109A 超声波清洗机

    日本 OTARI UA‑109A 超声波清洗机 UA‑109A(ソニックウォッチャー 2)是 OTARI 小谷推出的台式超声波清洗设备,搭载自有超声振荡技术,针对零部件、五金、电子元器件、实验试样进行精密清洗。设备自带监测功能,可实时监控超声输出状态,适合实验室、精密零部件加工车间使用。

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    2026-10-15

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  • 荷兰 VSParticle VSP‑G1 纳米颗粒发生器

    荷兰 VSParticle VSP‑G1 纳米颗粒发生器 荷兰 VSParticle VSP‑G1 是台式火花烧蚀纳米颗粒发生设备,常温常压气相物理法制备纳米气溶胶。利用两导电电极间高压电火花瞬间高温烧蚀靶材,原子在载气中冷却凝并生成纳米颗粒;不需要化学前驱体、表面活性剂,产出高纯度金属、合金、金属氧化物纳米颗粒,可独立作为气溶胶源,也可搭配粒径筛选器、沉积模块实现纳米膜制备。

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    2026-10-12

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  • 26/38/70DPS型日本超音波工业 扫频式 超声波清洗机

    日本超音波工业 扫频式 超声波清洗机 日本超音波工业 26/38/70DPS 系列为扫频(Sweep)型工业超声波清洗设备,搭载扫频振荡回路,可有效抑制驻波产生,槽内超声波能量分布更加均匀,减少清洗盲区。提供 26kHz、38kHz、70kHz 多种基础频率可选,对应重污垢剥离、中精密清洗、微细颗粒去除不同工艺需求,多用于五金、半导体零部件、模具、陶瓷零件、精密机械配件的批量洗净。

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    2026-10-12

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  • 日本精机 AM‑8  Ace 均质机 分散乳化处理

    日本精机 AM‑8 Ace 均质机 分散乳化处理 日本精机 AM‑8 型 Ace 均质机,属于台式高剪切均质乳化设备,依靠高速旋转转子‑定子机构,对样品进行高速剪切、破碎、乳化、分散处理。可处理液体‑粉体混合、油‑水乳化、生物组织破碎,适配小容量到中容量样品,广泛用于化工、化妆品、食品、生物医药、材料实验室,实现快速均质乳化、粉体分散、物料细化。

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    2026-10-12

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  • FS LINE/FS LINE Hybrid日本 HITACHI 日立 超声波探伤影像设备

    日本 HITACHI 日立 超声波探伤影像设备 日本日立(Hitachi Power Solutions)FS‑LINE / FS‑LINE Hybrid 属于大型水浸式 SAT 超声波影像装置。针对常规 FineSAT 机型无法检测的大尺寸工件,搭载大型扫描机构与大容量水槽,实现大板材、大靶材、大型陶瓷构件的非破坏内部成像检测。

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    2026-10-12

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  • HA‑60A日本 HONDA 本多 超声波探伤影像设备 SAT

    日本 HONDA 本多 超声波探伤影像设备 SAT 实现操作性的提升与高精度的无损检测。 ・可同时显示3种模式画面(A、B、C扫描模式),便于判断缺陷。 ・可根据工件特性选择合适的频率(高性能高分子凹面超声波探头)。

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    2026-10-12

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  • 日本 KAKOKI 三菱 旋转式陶瓷膜过滤机 DyF

    日本 KAKOKI 三菱 旋转式陶瓷膜过滤机 DyF 日本 KAKOKI 代理、三菱化工机生产的三菱 DynaFilter (DyF) 旋转式陶瓷膜过滤机,属于动态错流陶瓷膜过滤装置。依靠内部转子旋转在膜面产生剪切力,抑制滤饼堆积,可处理高固含量、高粘度、易堵料的浆料,解决传统陶瓷膜容易堵塞、通量衰减快的痛点。膜元件采用陶瓷材质,耐酸碱、耐溶剂、耐高温,化学稳定性强,可在线清洗再生。

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    2026-10-10

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  • 日本 S-Tec 电子零件清洗装置 UV 处理装置

    日本 S-Tec 电子零件清洗装置 UV 处理装置 日本 S-Tec 电子部品用 UV 处理装置,属于干式 UV 臭氧精密清洗设备,用于电子元器件、基板、玻璃、陶瓷工件表面的有机污染物去除。设备通过紫外光激发臭氧,光化学反应分解工件表面的有机残留、油脂、脱模剂、有机微粒,实现无药液干式洁净处理,同时可提升基材表面润湿性,改善后续粘接、镀膜、印刷工艺的附着力。

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    2026-10-10

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