日本 Filgen UV253V8/V8R UV臭氧清洗机
日本 Filgen UV253V8 / UV253V8R UV 臭氧清洗机，利用双波长紫外线 + 臭氧双重作用，高效清除样品表面有机污染物。设备通过紫外光激发产生臭氧，协同紫外氧化反应，在不损伤基底材料的前提下完成表面有机杂质的分解去除，广泛用于科研实验室、半导体、材料领域基板、试样的表面清洁与改性处理。

日本 Filgen UV253V8/V8R UV臭氧清洗机

日本 Filgen UV253V8/V8R UV臭氧清洗机

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产品介绍

日本 Filgen UV253V8 / UV253V8R UV 臭氧清洗机，利用双波长紫外线 + 臭氧双重作用，高效清除样品表面有机污染物。设备通过紫外光激发产生臭氧，协同紫外氧化反应，在不损伤基底材料的前提下完成表面有机杂质的分解去除，广泛用于科研实验室、半导体、材料领域基板、试样的表面清洁与改性处理。

产品特点

1. 双波长紫外 + 臭氧双重效应，氧化能力强，高效分解各类有机污染物

2. 干式清洗工艺，无需化学溶剂，无废液产生，绿色环保

3. 可实现样品表面超洁净处理，同时兼具表面亲水化改性效果

4. 机型 UV253V8、UV253V8R 可选，适配不同样品放置需求

5. 设备结构紧凑，台式设计，放置于实验室操作台即可使用

6. 操作简单，一键启动，清洗时间可设定，重复性好

技术参数

用途

1. 半导体硅片、石英基板、玻璃基片表面有机污渍清除

2. 材料科研样品表面亲水化改性、表面清洁预处理

3. 光学元件、薄膜试样有机污染物去除

4. 生物、纳米科研样品基底超洁净处理

5. 光刻、薄膜沉积工艺前的基底表面清洗