日本 FUJI ATOM 大气压等离子清洗机 日本 FUJI ATOM 大气压等离子装置，是无需真空腔体的常压式等离子表面处理设备。在大气环境下即可生成等离子体，对工件表面进行活化、清洁、除胶、去氧化层处理，提升基材表面附着力。无需真空环境，可对接流水线，实现连续在线处理，适合各类高分子、塑胶、玻璃、金属等工件的表面改性工序。

日本 MARUYAMA MUFB温水清洗机 日本 MARUYAMA 丸山 UP0814H2 MUFB 温水清洗机，整机搭载丸山自研 MUFB 超微细气泡发生单元，可在生成高压热水的同时瞬时产出高密度 UFB 纳米气泡，将高温水与纳米气泡结合喷射清洗。利用纳米气泡的剥离、吸附作用，大幅提升重油污、盐分污染物的清洗能力，可减少清洗‍剂使用，属于移动式工业高压热水清洗设备。

日本大生工业 FB喷射式清洗机 FJW型 日本大生工业 FJW 型 FB 喷射式清洗机，搭载自研细气泡（ファインバブル）喷射技术，将微纳米气泡与高压水流混合，通过喷射方式对工件表面进行清洗，属于一体化精密清洗设备，可剥离工件表面油污、粉尘、微小附着物，广泛用于精密零部件清洗工序。

日本OTARI UA‑109A超声波清洗机介绍： UA‑109A（ソニックウォッチャー 2）是OTARI小谷推出的台式超声波清洗设备，搭载自有超声振荡技术，针对零部件、五金、电子元器件、实验试样进行精密清洗。设备自带监测功能，可实时监控超声输出状态，适合实验室、精密零部件加工车间使用。

日本超音波工业 扫频式 超声波清洗机 日本超音波工业 26/38/70DPS 系列为扫频（Sweep）型工业超声波清洗设备，搭载扫频振荡回路，可有效抑制驻波产生，槽内超声波能量分布更加均匀，减少清洗盲区。提供 26kHz、38kHz、70kHz 多种基础频率可选，对应重污垢剥离、中精密清洗、微细颗粒去除不同工艺需求，多用于五金、半导体零部件、模具、陶瓷零件、精密机械配件的批量洗净。

日本 S-Tec 电子零件清洗装置 UV 处理装置 日本 S-Tec 电子部品用 UV 处理装置，属于干式 UV 臭氧精密清洗设备，用于电子元器件、基板、玻璃、陶瓷工件表面的有机污染物去除。设备通过紫外光激发臭氧，光化学反应分解工件表面的有机残留、油脂、脱模剂、有机微粒，实现无药液干式洁净处理，同时可提升基材表面润湿性，改善后续粘接、镀膜、印刷工艺的附着力。

日本 SAKURA 台式真空脉冲超声波清洗装置 日本 SAKURA V-SONIC TSU-252-VS 台式真空脉冲超声波清洗装置，采用真空 + 脉冲超声复合清洗工艺。在真空环境下进行超声波振荡，可剥离工件微孔、缝隙内的微颗粒、油污、研磨残渣；脉冲式超声输出能够减少驻波影响，清洗均匀性更好，降低工件表面损伤风险。

日本 SHINKA SPM型 棒状超声波清洗机 日本 SHINKA 新科产业 SPM 型棒状超声波清洗机为投入式棒型超声振动设备，棒状振子可 360° 放射超声波能量，形成均匀声场。可直接放入客户原有清洗槽、反应容器、管路内部使用，无需改造槽体，适合容器内腔、管件内孔的精密清洗。采用钛合金振动体，耐蚀耐用，具备空转保护、定时功能，支持连续 / 脉冲输出模式。