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日本 S-Tec 电子零件清洗装置 UV 处理装置

日本 S-Tec 电子零件清洗装置 UV 处理装置
日本 S-Tec 电子部品用 UV 处理装置,属于干式 UV 臭氧精密清洗设备,用于电子元器件、基板、玻璃、陶瓷工件表面的有机污染物去除。设备通过紫外光激发臭氧,光化学反应分解工件表面的有机残留、油脂、脱模剂、有机微粒,实现无药液干式洁净处理,同时可提升基材表面润湿性,改善后续粘接、镀膜、印刷工艺的附着力。

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  • 厂商性质:经销商
  • 更新时间:2026-10-10
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日本 S-Tec 电子零件清洗装置 UV 处理装置

日本 S-Tec 电子零件清洗装置 UV 处理装置


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产品介绍

日本 S-Tec 电子部品用 UV 处理装置,属于干式 UV 臭氧精密清洗设备,用于电子元器件、基板、玻璃、陶瓷工件表面的有机污染物去除。设备通过紫外光激发臭氧,光化学反应分解工件表面的有机残留、油脂、脱模剂、有机微粒,实现无药液干式洁净处理,同时可提升基材表面润湿性,改善后续粘接、镀膜、印刷工艺的附着力。可独立单机使用,也可与湿式清洗、自旋处理设备集成,适配单片式自动产线,广泛用于半导体、显示面板、电子基板等精密零部件的前处理工序。

产品特点

  1. 干式 UV 臭氧清洗,无需化学药液,无废液产生,环保洁净,不会造成基材湿损伤

  2. 高效分解表面有机污染物,去除油污、树脂残留、有机微颗粒,同时完成表面活化

  3. 可精准控制 UV 照射功率、处理时间,工艺参数可稳定复现

  4. 单片式工件处理结构,适配晶圆、陶瓷基板、显示玻璃、电子元器件

  5. 模块化设计,可对接 S-Tec 湿式清洗、自旋清洗设备,整线集成方便

  6. 密闭腔体结构,安全防护很好,适合洁净车间环境使用

产品用途

用于电子零部件、陶瓷基板、显示玻璃、半导体试样的干式精密清洗与表面活化,清除表面有机污染物,提升表面附着力,作为镀膜、丝网印刷、键合等工序前的预处理设备。适用于半导体、新材料、光学、电子零部件研发实验室与洁净生产车间。


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