日本 ACTIVE 半导体用薄膜制备加热旋涂机 ACT‑300AⅡ‑H 是 ACTIVE 开发的载台内置加热功能的旋涂机，区别于普通常温旋涂机，可在旋涂作业过程中对样品基底进行控温加热。 普通旋涂只能在室温下成膜，本机型可在设定温度下完成滴胶、高速旋转成膜，适配需要升温调控溶剂挥发速度的工艺，用于半导体、光电材料、高分子薄膜、光刻胶、功能涂层的制备。

日本RION MR‑S1 CMP浆料监测系统 半导体用 RION MR‑S1 为湿式浆料在线监测系统，采用超声衰减法，无需取样，直接对管路内循环浆料、研磨液、悬浮液进行实时监测。可同时输出颗粒浓度、等效粒径等数据，面向半导体、陶瓷、化学工艺现场，对循环浆料状态进行连续监控，及时捕捉浆料劣化、颗粒团聚、浓度波动，实现工艺稳定管控。

日本Micro-tec 半导体静电卡盘用丝网印刷机 日本 Micro-tec ESC-500 静电卡盘专用丝网印刷机，面向半导体陶瓷静电卡盘（ESC）电极图案印刷开发的高精度丝网印刷设备。专门用于氧化铝、氮化铝陶瓷基板表面导电电极线路印刷，可稳定制备静电卡盘所需的精细电极图形。设备印刷对位精度高，膜厚均匀可控，可减少针孔、断线、厚薄不均等印刷不良，适配陶瓷静电卡盘试样研发与小批量生产。

日本 不二 ATV 静电卡盘专用压纹加工设备 日本不二 ATV 静电卡盘专用压纹加工装置，专为半导体静电卡盘（ESC）的表面微凸点压纹（Emboss）加工开发。设备可在陶瓷静电卡盘基材表面精密成型均匀微凸起纹理，用于晶圆吸附、气体流通沟槽制备。加工精度高，成型纹路一致性好，不会造成基材崩边、微裂纹等损伤。