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日本RION MR‑S1 CMP浆料监测系统 半导体用

日本RION MR‑S1 CMP浆料监测系统 半导体用
RION MR‑S1 为湿式浆料在线监测系统,采用超声衰减法,无需取样,直接对管路内循环浆料、研磨液、悬浮液进行实时监测。可同时输出颗粒浓度、等效粒径等数据,面向半导体、陶瓷、化学工艺现场,对循环浆料状态进行连续监控,及时捕捉浆料劣化、颗粒团聚、浓度波动,实现工艺稳定管控。

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  • 厂商性质:经销商
  • 更新时间:2026-10-13
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详细介绍

日本RION MR‑S1 CMP浆料监测系统 半导体用

日本RION MR‑S1 CMP浆料监测系统 半导体用


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产品介绍

RION MR‑S1 为湿式浆料在线监测系统,采用超声衰减法,无需取样,直接对管路内循环浆料、研磨液、悬浮液进行实时监测。可同时输出颗粒浓度、等效粒径等数据,面向半导体、陶瓷、化学工艺现场,对循环浆料状态进行连续监控,及时捕捉浆料劣化、颗粒团聚、浓度波动,实现工艺稳定管控。

产品特点

  1. 超声衰减检测原理,直接接入工艺管路,实现非取样在线连续监测,不用取样稀释,避免取样带来数据偏差。

  2. 可同时监测浆料颗粒浓度与等效粒径,实时掌握浆料浓度变化、颗粒团聚恶化情况。

  3. 传感器直接接触浆料,适配高浓度悬浮液、研磨液、陶瓷浆料,浑浊样品也可稳定测量。

  4. 控制器可设置上下限阈值,异常时继电器报警输出,可联动 PLC、上位系统。

  5. 模拟信号 4‑20mA、RS‑485 通讯输出,数据可接入工厂控制系统记录、追溯工艺数据。

  6. 传感器探头耐磨损,可直接安装在循环管路、槽体侧壁;主机为盘面安装型,适配控制柜。

  7. 无需光学窗口,不受气泡、浆料颜色影响,适合现场严苛工业环境。

技术参数

触摸屏功能:1.设定测量条件;2.开始/停止测量;3.显示数据趋势图;4.列出数据数值;5.显示错误信息

外部输出功能:1.可通过以太网将数据从触摸屏传输到上位计算机;2.配备8点继电器输出接口

颗粒尺寸分类(2个等级):3微米以上、5微米以上

可测量的范围:当颗粒尺寸为3微米时,最大测量值为25微米;当颗粒尺寸为5微米时,最大测量值为40微米 

额定流量:60毫升/分钟

电源要求:交流电100伏特,50/60赫兹

连接方式:PFA材质的3/8英寸接口

尺寸与重量:480毫米(高)×300毫米(宽)×300毫米(深),重量为14公斤

主要用途

  • CMP 研磨液、抛光浆料循环状态在线监控

  • 陶瓷、无机粉体循环浆料浓度、颗粒状态监测

  • 半导体工艺浆料品质实时管控,预警浆料劣化团聚

  • 化工悬浮液生产过程在线监测

  • 工厂工艺闭环管控,数据记录与异常报警


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