日本 ACTIVE 半导体用薄膜制备加热旋涂机
ACT‑300AⅡ‑H 是 ACTIVE 开发的载台内置加热功能的旋涂机，区别于普通常温旋涂机，可在旋涂作业过程中对样品基底进行控温加热。 普通旋涂只能在室温下成膜，本机型可在设定温度下完成滴胶、高速旋转成膜，适配需要升温调控溶剂挥发速度的工艺，用于半导体、光电材料、高分子薄膜、光刻胶、功能涂层的制备。

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