日本 aiden 简易型半导体用薄膜旋涂机
日本 aiden SC4002 简易型旋涂机，日文名称簡易型スピンコータ（SPIN COATER），是一款台式简易薄膜旋涂设备。依靠高速旋转产生的离心力，将滴落在基板表面的溶液均匀铺展成薄膜，设备操作简易，体积小巧，可灵活设置转速、旋涂时间，适合实验室薄膜制备、光刻胶涂覆等基础工艺，是材料、半导体、光学研究领域常用的小型涂膜仪器。

日本 aiden 简易型半导体用薄膜旋涂机

日本 aiden 简易型半导体用薄膜旋涂机

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产品介绍

旋转涂布机是一种用于从化合物溶液中制备薄膜的装置。
由于真空蒸发装置会导致化合物分解，因此它特别适合用于那些难以通过该方式制备薄膜的化合物或聚合物等物质的薄膜制备。
SC4002的旋转速度范围为50至4000转/分钟，而SC8002的旋转速度范围则为100至8000转/分钟。
使用方法如下：将作为基底的材料（如玻璃或金属）放置在中央旋转体的上方，然后将溶解了聚合物或化合物等的溶剂倒入其中。打开开关并设定合适的旋转速度后，中央部分就会开始旋转。数十秒后，溶液会被甩掉，形成一层薄薄的液膜。此时，溶剂也会挥发掉，从而在基底上形成一层非常薄的膜。该装置允许用户以两档方式来设定旋转速度和旋转时间。

特点

1. 台式简易机型，机身紧凑，放置方便，适合实验室桌面使用

2. 转速与旋涂时间可独立设定，工艺参数可调，操作简单易上手

3. 高速离心旋涂，能够获得均匀、厚度可控的薄膜涂层

4. 适配多种基板，玻璃片、硅片、小型试样基板均可使用

5. 运行稳定，振动小，旋涂薄膜一致性好

6. 整机维护简便，腔体便于清洁，更换样品快速

7. 低噪音运行，适合实验室长时间样品制备作业

参数

1）转速设定：80～4,000转/分钟（数字式设定）  

2）加速/减速时间设定：0.0～15秒（以0.1秒为间隔）  

3）转速显示方式：4位数字显示（格式为“口口口0～4000"）  

4）运行时间设定：0.05秒～300小时（可通过操作面板切换设定单位）  

5）样品旋转腔体：内径为133.8毫米的圆筒形结构，高度为46毫米；配有可拆卸的不锈钢内盘，其内径为130毫米。  

6）旋转锁定功能：当盖子未关闭时，设备不会开始旋转。（配有开关，用于检测盖子是否已关闭）  

7）外形尺寸及重量：高度186毫米，宽度258毫米，深度296毫米；重量为7.0公斤。  

8）供电要求：交流电100伏特，功率不超过55瓦特。  

9）使用环境温度：0～+40摄氏度，湿度不超过85％（不得出现结冰或结露现象）。

用途

高校与科研实验室薄膜样品制备；光刻胶、高分子涂层、功能薄膜的旋涂试验；光学材料、半导体基础试样的涂膜工艺研究；新材料研发，制备均匀薄层样品；教学实验、配方筛选，开展涂层工艺条件摸索。