荷兰 VSParticle VSP‑G1 纳米颗粒发生器
荷兰 VSParticle VSP‑G1 是台式火花烧蚀纳米颗粒发生设备，常温常压气相物理法制备纳米气溶胶。利用两导电电极间高压电火花瞬间高温烧蚀靶材，原子在载气中冷却凝并生成纳米颗粒；不需要化学前驱体、表面活性剂，产出高纯度金属、合金、金属氧化物纳米颗粒，可独立作为气溶胶源，也可搭配粒径筛选器、沉积模块实现纳米膜制备。

荷兰 VSParticle VSP‑G1 纳米颗粒发生器

荷兰 VSParticle VSP‑G1 纳米颗粒发生器

VSP‑G1 Generator，VSParticle，火花烧蚀纳米发生器，气相纳米颗粒制备，无表面活性剂纳米气溶胶发生装置，桌面式纳米粒子合成系统

产品介绍

VSP-G1纳米粒子生成器是一种桌面式设备，可用于制备尺寸在1至20纳米之间的纯金属、金属氧化物或合金纳米粒子。这种纳米粒子的生成在气相中进行，因此无需使用表面活性剂或前体物质。用于生成纳米粒子的原料就是由所需材料制成的两根电极。只需将电极装入设备中，设定好相关参数，然后按下按钮即可开始生成纳米粒子。所有VSParticle系列产品都采用模块化设计，因此VSP-G1纳米粒子生成器既可以单独作为纳米气溶胶的生成装置使用，也可以与不同的沉积模块结合在一起，用来制备更高级的纳米材料。

产品特点

1. 火花烧蚀物理气相原理：室温常压工作，只需要导电棒状电极靶材 + 惰性载气，无化学试剂，无液相残留污染，得到高纯纳米颗粒。

2. 粒径可调：通过载气流量、火花参数调控，原生颗粒 1‑20 nm；搭配 VSP‑S1 粒径分选器可进一步精确筛分粒径区间。

3. 材料兼容性广：几乎所有可加工成棒材的导电材料，金属、合金、半导体；通入氧气等反应气体可直接生成金属氧化物纳米颗粒。

4. 模块化架构：多组气路接口，可外接沉积单元、差分迁移分析仪、过滤器；可单机做气溶胶源，也可整套用于基底直接沉积纳米多孔薄膜。

5. 操作简单：主机旋钮调节粒径与产率，带急停；反应腔可整体拆卸，便于通风橱内安全清洁、更换电极靶材。

6. 工艺可复现：火花放电稳定，参数可记录保存，批次之间纳米颗粒尺寸、组分一致性好。

产品用途

1. 催化领域高纯金属 / 合金纳米催化剂制备，气相直接沉积催化剂。

2. 传感器、燃料电池纳米功能薄膜制备，无粘结剂纳米多孔层沉积。

3. 材料科研，金属、合金、氧化物纳米颗粒基础物性研究。

4. 电镜样品制备，直接在 TEM/SEM 载网上沉积纳米颗粒试样。

5. 气溶胶科学、纳米毒理学实验纳米气溶胶发生源。

6. 高校、研究院新材料小试，替代传统湿化学合成，规避表面活性剂杂质干扰。