日本超音波工业 扫频式 超声波清洗机 日本超音波工业 26/38/70DPS 系列为扫频（Sweep）型工业超声波清洗设备，搭载扫频振荡回路，可有效抑制驻波产生，槽内超声波能量分布更加均匀，减少清洗盲区。提供 26kHz、38kHz、70kHz 多种基础频率可选，对应重污垢剥离、中精密清洗、微细颗粒去除不同工艺需求，多用于五金、半导体零部件、模具、陶瓷零件、精密机械配件的批量洗净。

日本 S-Tec 电子零件清洗装置 UV 处理装置 日本 S-Tec 电子部品用 UV 处理装置，属于干式 UV 臭氧精密清洗设备，用于电子元器件、基板、玻璃、陶瓷工件表面的有机污染物去除。设备通过紫外光激发臭氧，光化学反应分解工件表面的有机残留、油脂、脱模剂、有机微粒，实现无药液干式洁净处理，同时可提升基材表面润湿性，改善后续粘接、镀膜、印刷工艺的附着力。

日本 SAKURA 台式真空脉冲超声波清洗装置 日本 SAKURA V-SONIC TSU-252-VS 台式真空脉冲超声波清洗装置，采用真空 + 脉冲超声复合清洗工艺。在真空环境下进行超声波振荡，可剥离工件微孔、缝隙内的微颗粒、油污、研磨残渣；脉冲式超声输出能够减少驻波影响，清洗均匀性更好，降低工件表面损伤风险。

日本 SHINKA SPM型 棒状超声波清洗机 日本 SHINKA 新科产业 SPM 型棒状超声波清洗机为投入式棒型超声振动设备，棒状振子可 360° 放射超声波能量，形成均匀声场。可直接放入客户原有清洗槽、反应容器、管路内部使用，无需改造槽体，适合容器内腔、管件内孔的精密清洗。采用钛合金振动体，耐蚀耐用，具备空转保护、定时功能，支持连续 / 脉冲输出模式。

日本Filgen 手持式 UV臭氧清洗机 UV253MINI 日本 Filgen UV253MINI 手持式 UV 臭氧清洗机，属于便携小型紫外臭氧清洗设备，依托紫外与臭氧协同氧化原理，快速分解试样表面有机污染物。区别于台式机型，本品为手持轻量化设计，可灵活对准局部样品区域做定点清洗，适用于小试样、局部区域的表面清洁和亲水化改性，广泛应用纳米材料、光学、半导体、生物实验室样品前处理。

日本 Filgen UV253V8/V8R UV臭氧清洗机 日本 Filgen UV253V8 / UV253V8R UV 臭氧清洗机，利用双波长紫外线 + 臭氧双重作用，高效清除样品表面有机污染物。设备通过紫外光激发产生臭氧，协同紫外氧化反应，在不损伤基底材料的前提下完成表面有机杂质的分解去除，广泛用于科研实验室、半导体、材料领域基板、试样的表面清洁与改性处理。

日本 SHINKA 新科 卓上型超声波清洗机 日本 SHINKA 新科产业 PS 型 / PSA 型台式超声波清洗器，依靠超声空化效应剥离附着物，PS 为模拟款，PSA 为数字升级款，标配加热与定时功能，主流频率 40kHz，可选高周波 120kHz 机型。整机采用不锈钢清洗槽，多容量规格可选，附带清洗网篮，适合实验室玻璃器皿、小型精密零部件清洗。

日本SHINKA 新科 卓上超声波洗浄器 清洗机 日本 SHINKA 新科产业 SK-HP 型、SK-LHC 型卓上型超音波洗浄器，为实验室台式超声波清洗设备，依托超声空化效应剥离工件表面污物。SK-HP 为单频机型，SK-LHC 支持双频切换，整机采用不锈钢清洗槽，输出功率连续可调，搭载定时功能。