美国 PALL CMP化学机械抛光用深度过滤器 Pall Profile® II 是半导体 CMP 化学机械抛光工艺专用全聚丙烯深度过滤滤芯，采用梯度渐变孔隙结构（分级孔径），由粗细聚丙烯纤维热熔缠绕成型，无树脂粘合剂。专门针对CMP抛光浆料，截留浆料中大颗粒、团聚结块，减少晶圆抛光划痕缺陷，分为 AB、RMF、MCY、RF 多种接头构型，适配CMP供料循环回路以及机台使用点 POU 过滤。

日本 KAKOKI 三菱 旋转式陶瓷膜过滤机 DyF 日本 KAKOKI 代理、三菱化工机生产的三菱 DynaFilter (DyF) 旋转式陶瓷膜过滤机，属于动态错流陶瓷膜过滤装置。依靠内部转子旋转在膜面产生剪切力，抑制滤饼堆积，可处理高固含量、高粘度、易堵料的浆料，解决传统陶瓷膜容易堵塞、通量衰减快的痛点。膜元件采用陶瓷材质，耐酸碱、耐溶剂、耐高温，化学稳定性强，可在线清洗再生。

日本 KITZ MICRO FILTER 工业精密过滤器 日本 KITZ MICRO FILTER ポリフィックス（Polyfix）尼龙 F 系列工业精密过滤器，采用尼龙多孔膜材质制成的精密过滤滤芯。尼龙基材亲水性优异，耐有机溶剂，可有效截留液体中的微粒、胶体、杂质，实现高精度液体净化。滤芯结构稳定，流量特性良好，压差低，适合各类纯水、化学品、溶剂等流体过滤。

日本TAISEI 大成技研 气体粉体过滤去除装置 日本 TAISEI 大成技研 TU 系列トラパック气体粉体去除装置，日本进口，专为半导体、液晶行业开发的工艺气体粉体捕集设备。可高效去除工艺气体中携带的固体微颗粒、粉尘，保护后端精密生产设备，防止管路与腔体内部粉尘堆积。设备适配洁净生产环境，结构紧凑，拆装维护便捷，能够稳定连续捕捉气体中的粉体杂质，是半导体、液晶制程中气体管路粉体处理专用设备。

日本SONIC GS 循环超声分散过滤一体机 日本 SONIC（ソニックテクノロジー）GS 循环式超声波分散过滤机，是分散 + 过滤一体化循环系统。浆料经由泵送入超声波照射腔体，依靠超声空化效应打碎团聚颗粒完成微细化分散；随即直接进入过滤单元，未通过滤膜的粗颗粒返回料罐循环重复处理，滤液单独收集。

日本SONIC GSD系列 实验室超声波分散过滤机 日本株式会社ソニックテクノロジー Sonic GSD 系列超音波濾過機，采用超声波空化效应，兼具超声分散 + 在线过滤功能，可对浆料体系进行微粒解团聚、细化分散，同时借助超声振动防止滤膜堵塞，提升过滤效率。搭载全自動调谐回路，可实时追踪负载变化，稳定维持设定振幅，不受样品浓度、粘度波动影响。