日本VACUUM DEVICE 高精度SEM样品镀膜机 日本VACUUM DEVICE MSP-1S（マグネトロンスパッタ装置）是一款紧凑型台式直流磁控溅射装置，专为实验室精密样品镀膜、电镜样品前处理、纳米薄膜制备场景量身打造。设备搭载日系成熟真空控制系统与低压磁控溅射核心技术，集成内置真空泵一体化结构，无需外接复杂真空设备，安装摆放灵活、操作极简。

日本VACUUM DEVICE 小型台式磁控溅射镀膜机 日本 VACUUM DEVICE（真空デバイス）MSP-mini 小型磁控溅射装置，为桌面型科研用薄膜沉积设备。采用磁控溅射原理，在真空腔体内将靶材原子溅射沉积到样品表面，制备金属、合金、氧化物等各类薄膜。设备体积小巧，操作门槛低，适合高校、材料研究所开展材料表面改性、SEM 样品喷金、功能薄膜小样试制。