日本 VACUUM DEVICE 磁控溅射装置 镀膜机
日本 VACUUM DEVICE MSP-20UM（マグネトロンスパッタ装置）为原装台式磁控溅射设备，依托成熟真空与等离子控制技术，面向实验室薄膜试样制备开发。设备腔体容量更大，样品承载能力更强，可稳定实现多种靶材薄膜沉积，膜层均匀、工艺重复性好。

日本 VACUUM DEVICE 磁控溅射装置 镀膜机

日本 VACUUM DEVICE 磁控溅射装置 镀膜机

磁控溅射装置，MSP-20UM，VACUUM DEVICE，台式溅射镀膜设备，薄膜制备仪，样品镀膜装置，小型薄膜沉积设备 

产品简介：

日本 VACUUM DEVICE MSP-20UM（マグネトロンスパッタ装置）为原装台式磁控溅射设备，依托成熟真空与等离子控制技术，面向实验室薄膜试样制备开发。设备腔体容量更大，样品承载能力更强，可稳定实现多种靶材薄膜沉积，膜层均匀、工艺重复性好。设备操作流程简单，维护方便，适合各类科研试样的薄膜制备、表面涂层实验，广泛用于高校、研究院所、材料检测实验室的研发试验工作。

产品特点：

★该设备用于对电子显微镜的样品进行导电膜处理。

★它具备氩气等气体的导入功能以及压力调节功能，有助于提升膜的纯度。

★操作非常简单，只需从右到左依次按下开关即可。

★此外，该设备还具备防止误操作的机制，即使不小心按错开关也不会导致异常情况，因此多人同时使用也无需担心。

★调整完成后，只需按下中间的自动控制开关即可。

★该设备会自动调节排气速度与放电条件，以保持最佳平衡。

★样品台采用低离子损伤的浮动式设计。（倾斜/旋转功能为可选配置）

★为了给那些容易受到离子损伤或热损伤的样品提供保护，该设备采用了磁控方式来进行涂层处理，且使用的是低压涂层技术。

★标准配置中包含铂金属板作为靶材，当然也可以根据需求更换其他靶材。（不过，价格则保持不变，敬请谅解。）

技术参数：

应用领域：

 材料试样薄膜制备、样品表面涂层处理、纳米薄膜研发、高校材料与理化实验室科研试验、光学试样镀膜、功能薄层制备、高分子与复合材料表面改性、科研样品前处理。