日本VACUUM DEVICE 小型台式磁控溅射镀膜机
日本 VACUUM DEVICE（真空デバイス）MSP-mini 小型磁控溅射装置，为桌面型科研用薄膜沉积设备。采用磁控溅射原理，在真空腔体内将靶材原子溅射沉积到样品表面，制备金属、合金、氧化物等各类薄膜。设备体积小巧，操作门槛低，适合高校、材料研究所开展材料表面改性、SEM 样品喷金、功能薄膜小样试制。

日本VACUUM DEVICE 小型台式磁控溅射镀膜机

日本VACUUM DEVICE 小型台式磁控溅射镀膜机

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产品简介

MSP-mini只需按下按钮即可自动完成涂层处理，是一款性价比高的设备。
作为消耗品的靶材采用小型设计（直径32毫米），因此也能有效降低运行成本。

标准配置中即带有Au靶材。在用于低倍率观察的台式SEM的导电预处理过程中，该靶材能发挥出色作用。
作为可选配件的Ag膜具有出色的光泽度，有助于更轻松地观察透明材料表面的情况。

该产品包含装置主体、旋转泵、1块靶金属（默认为金），以及真空软管。
由于属于简易型装置，因此不附带安装与使用说明。

产品特点

1. 台式紧凑型整机设计，占用实验室台面空间小，无需大型安装场地，放置即可使用

2. 磁控溅射结构，可实现金属、合金、氧化物靶材的薄膜沉积，成膜均匀致密

3. 真空腔体小型化，抽真空速度快，缩短单次实验周期，适合多组样品快速试验

4. 样品台可支持小尺寸基板、粉末、薄片试样，适配 SEM 观察样品喷镀与功能膜试制

5. 溅射功率、沉积时间可控，便于调整薄膜厚度，工艺参数可复现

6. 腔体开启方便，靶材、样品更换简单，清洁维护便捷

7. 完备真空安全联锁，腔体未密封时无法启动溅射，保障操作人员安全

8. 可选配套真空规、气体流量控制模块，实现氩气等工艺气体精准调节

技术参数（概要）

应用领域

• 扫描电镜 SEM 样品喷金、喷铂，提升样品导电性能

• 材料、半导体、薄膜科研实验室，金属 / 氧化物功能薄膜试制

• 高校材料、物理专业教学实验，溅射基础工艺研究

• 传感器、电极薄层试样制备

• 粉体、薄片样品表面金属化处理

• 新材料表面改性、涂层基础研发