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日本中央精机 光学定位X轴滑台 半导体用

日本中央精机 光学定位X轴滑台 半导体用
LS‑6042‑S1 属于中央精机高等级手动 X 轴精密滑台,采用交叉滚子导轨结构,实现高直线度、低晃动。台面尺寸 60×42mm,进给采用精密微调螺杆,带锁紧机构,用于光学设备、检测装置、显微镜、样品台的一维精密位移调节,广泛应用于材料实验室、半导体检测设备的样品定位。

  • 产品型号:LS‑6042‑S1
  • 厂商性质:经销商
  • 更新时间:2026-10-14
  • 访  问  量:7
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详细介绍

日本中央精机 光学定位X轴滑台 半导体用

日本中央精机 光学定位X轴滑台 半导体用


日本中央精机 CHUO SEIKI,LS‑6042‑S1,ハイグレード X ステージ,高精度手动 X 轴位移台,精密手动滑台,光学定位平台

产品介绍

LS‑6042‑S1 属于中央精机高等级手动 X 轴精密滑台,采用交叉滚子导轨结构,实现高直线度、低晃动。台面尺寸 60×42mm,进给采用精密微调螺杆,带锁紧机构,用于光学设备、检测装置、显微镜、样品台的一维精密位移调节,广泛应用于材料实验室、半导体检测设备的样品定位。

产品特点

  1. 交叉滚子导轨,运动顺滑,直线度高,俯仰、偏摆晃动小,保障位移调节精度。

  2. 台面尺寸 60×42mm,安装孔兼容标准 M6 螺纹孔,方便样品座、治具直接固定。

  3. 精密微调进给螺杆,带刻度手轮,可读取移动量;配置锁紧手柄,调节完成后锁定滑台位置,防止位移漂移。

  4. 本体铝合金基材,表面硬质氧化处理,轻量化同时具备良好刚性;耐腐蚀,适合实验室洁净环境使用。

  5. 底座预留标准安装孔,可直接固定机架,也可多台组合搭建 XY 多维位移平台。

  6. 高等级型号,运动间隙小,适合精密检测、光学对焦、样品对位场景。

技术参数

ステージ面60mm×60mm
クランプ方式板クランプ
操作部取付位置サイド
移動機構/送り方式CMH-13RM(標準マイクロメータ)
移動量±6.5mm
移動量/ツマミ1回転0.5mm
目量マイクロメータ式0.01mm
感度0.003mm
移動ガイドHG-VCR(V溝とクロスローラ)
移動精度HV真直度(水平・垂直)0.001mm
移動精度YPヨーイング15sec、ピッチング25sec
許容モーメントヨー 1200N・cm、ピッチ 1200N・cm、ロール 1200N・cm
モーメント剛性ヨー剛性 0.04sec/N・cm、ピッチ剛性 0.04sec/N・cm、ロール剛性 0.02sec/N・cm
平行度0.015mm
運動の平行度0.007mm
耐荷重196N(20kgf)
質量0.4kg
主要材質/表面処理ステンレス/黒色酸化クロム
標準付属品検査合格証
六角穴付ボルト(本体固定用)M4 4本

主要用途

‑ 光学设备、显微镜系统样品一维精密位移调节定位 

‑ 检测仪器、观察装置样品台位移调整 

‑ 搭配其他滑台组合成 XY 平台,用于样品对位、对焦 

‑ 新材料、半导体实验室实验设备搭建 

‑ 研发设备工装,微小位置手动精密微调


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