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2026-10-14
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日本中央精机 光学定位X轴滑台 半导体用 LS‑6042‑S1 属于中央精机高等级手动 X 轴精密滑台,采用交叉滚子导轨结构,实现高直线度、低晃动。台面尺寸 60×42mm,进给采用精密微调螺杆,带锁紧机构,用于光学设备、检测装置、显微镜、样品台的一维精密位移调节,广泛应用于材料实验室、半导体检测设备的样品定位。
2026-10-14
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日本 NABEYA MQC型 测量治具 快速测量夹具 MQC 型快速夹紧治具,是 NABEYA 专为三坐标测量机、影像测量仪开发的轻量化快速夹持工装。无需工具,手动操作即可完成工件夹紧与释放,夹持力可调节,实现低应力夹持,避免工件被压伤变形。安装于测量工作台,适配多品种工件检测,省去定制夹具,缩短检测准备工时,广泛用于精密零部件、陶瓷、半导体零部件质检工位。
2026-10-14
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日本 NABEYA FLS88R 柔性支撑测量用夹具 FLS88R フレックスサポート是 NABEYA 锅屋百迪柔性多点支撑测量治具,用于三坐标测量机、影像测量仪上对异形、薄板、脆性工件做无损伤支撑定位。多根独立浮动顶针可随工件外形自适应伸缩,实现多点柔性托持,无需制作专用定制夹具,防止薄板变形、陶瓷 / 半导体工件夹持压伤,大幅缩短测量工装准备工时。
2026-10-14
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日本 AND AD‑1671 天平专用除振台 AD‑1671 是 AND 专为分析天平、微量天平开发的桌面式除振基座,采用空气弹簧被动隔振结构,吸收地面传来的振动、建筑震动,消除振动造成的称量漂移、数值跳动,大幅提升微量 / 半微量天平称量稳定性,适配 BM 系列、BA‑T 系列等高精度天平,放置于实验台面上即可使用,无需土建施工。
2026-10-14
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日本RION MR‑S1 CMP浆料监测系统 半导体用 RION MR‑S1 为湿式浆料在线监测系统,采用超声衰减法,无需取样,直接对管路内循环浆料、研磨液、悬浮液进行实时监测。可同时输出颗粒浓度、等效粒径等数据,面向半导体、陶瓷、化学工艺现场,对循环浆料状态进行连续监控,及时捕捉浆料劣化、颗粒团聚、浓度波动,实现工艺稳定管控。
2026-10-13
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日本 NEW STRONG VCIM系列 真空吸盘 卡盘 日本 NEW STRONG(株式会社ニューストロング)VCIM 系列 “吸チャックボーイ” 真空吸盘,是一款紧凑型内置真空泵式真空吸附夹具,无需外接大型真空发生装置,本体集成真空发生单元,通电即可产生负压,可快速吸附固定金属、陶瓷、玻璃、石墨、各类板材工件,广泛用于研磨、切削、检测、划线等工序,中小型工件夹持作业现场使用便捷。
2026-10-13
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JAPAN THERMOTEC 热分析杯 CE CUP‑W JAPAN THERMOTEC CE CUP‑W 为 CE 热分析仪表专用热分析样杯,属于铸造冶金行业一次性消耗耗材。将熔融铁水注入样杯内部,配合热分析仪表完成铁水的碳当量、碳含量、硅含量等成分快速测算,帮助现场快速预判材质成分,适用于灰铸铁、球墨铸铁熔炼现场快速检测,样杯结构稳定,测温反应可靠,保障热分析曲线采集稳定,减少现场检测误差。
2026-10-12
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