日本 SANVAC 小型高温真空炉 陶瓷金属
日本 SANVAC（株式会社サンバック）小型高温真空炉，面向科研实验室开发的紧凑型高真空热处理设备，主要用于小尺寸试样在真空环境下完成烧结、退火、脱气等热处理工序。具备高速升温能力，极限可达高真空环境，炉体体积小巧，对场地占用小，适配新材料研发、陶瓷、金属、硬质材料小试样工艺试验，也可通入惰性保护气氛使用。

日本 SANVAC 小型高温真空炉 陶瓷金属

日本 SANVAC 小型高温真空炉 陶瓷金属

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产品介绍

日本 SANVAC（株式会社サンバック）小型高温真空炉，面向科研实验室开发的紧凑型高真空热处理设备，主要用于小尺寸试样在真空环境下完成烧结、退火、脱气等热处理工序。具备高速升温能力，极限可达高真空环境，炉体体积小巧，对场地占用小，适配新材料研发、陶瓷、金属、硬质材料小试样工艺试验，也可通入惰性保护气氛使用。

产品特点

1. 高速升温性能，可 60 分钟内升温至 1700℃，最高温度可达 1800℃，大幅缩短实验等待周期。

2. 高真空性能，常温空载完成脱气后，极限真空可达 9.0×10⁻⁴Pa 级别，20 分钟内可抽到 1.0×10⁻³Pa，满足高洁净热处理条件。

3. 紧凑型小型炉体，专为小试样研发设计，不占用大量实验室空间。

4. 可在真空基础上导入氩气、氮气等惰性气体，实现真空气氛两用工艺。

5. 程序温度控制，可编辑多段升温‑保温‑降温工艺曲线，工艺条件可存储复现。

6. 加热部件、隔热屏采用耐高温金属材质，抗脱气污染；具备过温、真空异常等安全联锁保护。

7. 可根据试样尺寸、温度、真空指标做定制化调整。

技术参数

○到達圧力       9.0×10-4Pa台 ※常温・無負荷・脱ガス完了時 

○排気速度       1.0×10-3Pa迄20分以内 ※常温・無負荷・脱ガス完了時 

○最高温度       1800℃ 

○昇温時間       1700℃迄1時間以内 

○炉内寸法       φ159.2×190mmH SUS304 

○均熱領域       φ30×65mmH 

○加熱機構       タングステンヒーター 

                             リフレクター：タングステン/モリブデン多層構造 

○加熱制御       サイリスタ制御 

                             PID方式温調計(プログラム温調計含む)

○真空排気系  油回転ポンプ：167L/min[50Hz] 

                             油拡散ポンプ：125L/sec 

○真 空 計         広帯域真空計 

○操作方法      手動/自動操作可能 

○制 御 系         シーケンサー/タッチパネル 

○ﾕｰﾃｨﾘﾃｨ        電気：AC200V三相6.5kVA 

                            冷却水：13L/min以上0.15MPa以上0.2MPa以下25℃以下循環 

                            計装エアー：0.5MPa以上 

                            設置寸法：900mmW×700mmD×1405mmH

产品用途

1. 精细陶瓷、粉末冶金小试样真空烧结实验。

2. 各类金属材料真空退火、应力消除、脱气热处理。

3. 新材料研发实验室小批量试样高温真空工艺开发。

4. 硬质合金、靶材小样、复合材料的真空热处理评价。

5. 需要高洁净无氧化环境的试样烧结、退火、回火处理。