日本 Nippon Sanso 黄磷发光式微量氧分析仪
TOA‑IV 是 TOA‑II Z 的升级机型，黄磷化学发光原理超微量氧分析仪，面向半导体超高纯气体工艺，实现低至 0.1ppb 级别氧气检测，采用卡盒式一体化黄磷耗材，配套专用除害筒，兼顾检测灵敏度与操作安全性。搭载液晶触控面板，支持自动零点 / 量程校准，用于氮气、氩气、氦气、氢气等高纯工艺气体中痕量氧在线监测。

日本 Nippon Sanso 黄磷发光式微量氧分析仪

日本 Nippon Sanso 黄磷发光式微量氧分析仪

日本 Nippon Sanso，TOA‑IV，黄燐発光式微量酸素分析計，ppb 级超微量氧检测仪，半导体高纯气体氧含量分析

产品介绍

TOA‑IV 是 TOA‑II Z 的升级机型，黄磷化学发光原理超微量氧分析仪，面向半导体超高纯气体工艺，实现低至 0.1ppb 级别氧气检测，采用卡盒式一体化黄磷耗材，配套专用除害筒，兼顾检测灵敏度与操作安全性。搭载液晶触控面板，支持自动零点 / 量程校准，用于氮气、氩气、氦气、氢气等高纯工艺气体中痕量氧在线监测，是半导体、热处理气氛管控的在线分析设备。

产品特点

• 高灵敏度：最小检测灵敏度为0.1ppb

• 高速响应：90%的响应时间在120秒以内

• 安全性：采用盒式黄磷容器，并配有黄磷除害筒。

• 操作性：通过液晶触摸屏实现交互式操作

• 校正：烦人的零点，跨度校正自动完成

技术参数

主要用途

‑ 半导体超高纯氮气、氩气、氦气、氢气中 ppb 级别痕量氧气在线监测

‑ 气氛烧结炉、热处理设备保护气体氧含量监控，判断炉体泄漏空气侵入 

‑ 电子材料、第三代半导体材料工艺气体品质管控 

‑ 高纯气体发生器、钢瓶气体出厂检验、来料验收 

‑ 新材料研发，无氧气氛工艺的微量氧连续监控