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产品型号:HECD系列
厂商性质:经销商
更新时间:2026-10-10
访 问 量:31
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日本 MATSUSADA 松定 静电卡盘专用高压电源
日本 MATSUSADA 松定 静电卡盘专用高压电源
MATSUSADA 松定 HECD 系列,静电卡盘高压电源,ESC 高压供电电源,半导体静电吸盘电源,双极性高压直流电源,静电吸附高压发生器,半导体工艺高压电源
日本 MATSUSADA 松定 HECD 系列静电卡盘专用高压电源,针对半导体静电卡盘 ESC 工况开发的高性能双极性高压直流电源。输出电压稳定性高,电压纹波小,可精准调节静电吸附力,能够快速完成晶圆吸附、脱附的工艺时序切换。搭载电弧检测与抑制功能,可实时监测工艺腔体内放电异常,搭配过压、过流、短路多重安全防护,降低静电卡盘、晶圆受损风险。支持远程模拟 / 数字通讯控制,易于集成到刻蚀、PVD、CVD 等半导体真空工艺设备,适用于设备研发验证与量产产线配套。
半拉克尺寸的紧凑设计
通过极性反转功能实现平稳的解锁,从而提升处理效率。
借助能够监测晶圆夹紧状态的晶圆检测功能,可实现可靠的夹紧/松开操作。
采用放大器结构,实现了“快速响应",同时还能在极性切换时无需使用机械继电器,从而具备更长的使用寿命。
通过“2路输出(2通道)独立控制(可选)"以及“中央触点输出(可选)",可满足各种夹紧/松开需求。
数字接口[LAN·USB·RS-232C]标准配备
内置RF滤波器(低通滤波器)(13.56MHz)
可提供特殊定制服务(4通道、6通道、数字控制、输出电压等)
| 模型名称 | 最大输出功率(各通道) | 输出响应时间(典型值) [-90%⇔+90% 无负荷时] | |
|---|---|---|---|
| 电压 [kV] | 电流 [mA] | ||
| HECD-0.5B20×2 | +0.5kV,-0.5kV | 20mA | 10毫秒 |
| HECD-1B10×2 | +1kV,-1kV | 10mA | 10毫秒 |
| HECD-1.5B6×2 | +1.5kV,-1.5kV | 6mA | 15毫秒 |
| HECD-2B5×2 | +2kV, -2kV | 5mA | 20毫秒 |
| HECD-4B1×2 | +4kV,-4kV | 1mA | 40毫秒 |
| HECD-4B2.5×2 | +4kV,-4kV | 2.5mA | 40毫秒 |
| HECD-5B2×2 | +5kV,-5kV | 2mA | 60毫秒 |
| HECD-7.5B1.2×2 | +7.5kV,-7.5kV | 1.2mA | 90毫秒 |
为半导体工艺设备中的静电卡盘(ESC)提供高压驱动,实现晶圆静电夹持固定。配套刻蚀、薄膜沉积等半导体工艺腔体,稳定夹持晶圆,保证晶圆温度均匀。适用于半导体设备制造商、科研机构,用于静电卡盘性能测试、设备开发验证以及工业化产线配套供电。
静电夹具
半导体制造装置
光刻技术 (Photolithography)
化学气相沉积(Chemical Vapor Deposition:CVD)
等离子体CVD(等离子体增强CVD:PECVD)
半导体晶圆处理
平板面板处理
干法蚀刻(Dry etching)
等离子体蚀刻(Plasma etching)
反应离子刻蚀(Reactive-ion etching: RIE)