日本进口otsuka大塚电子光波动场显微镜
具备10nm超高Z轴分辨率、大视野快速扫描、成像后数字重聚焦功能，高效适配光学薄膜、高分子、半导体、精密化工、生物科研等领域的微观检测与材料表征。

产品详细简介

核心工作原理

核心功能与产品优势

• 纳米级超高分辨率：Z轴深度分辨率可达10nm，XY合成分辨率488nm，可精准检出透明划痕、微空洞、层间气泡、凝胶团聚、微观杂质等纳米缺陷，支持缺陷定量分析。

• 全无损无标记检测：无需染色、镀膜、切片处理，低功率激光无损伤，可直接检测柔性薄膜、涂层、活体细胞、软物质等各类敏感样品，保全样品原始状态。

• 免对焦+数字重聚焦：摒弃传统机械对焦模式，一次成像采集全域数据，后期可任意深度虚拟重聚焦解析，杜绝漏检、对焦偏差问题，大幅提升检测效率。

• 大视野高效扫描：单次成像视野达700×700μm，无需多次图像拼接，无拼接失真、错位问题，适合大面积样品批量缺陷筛查。

• 透明材料专属适配：针对性优化检测算法，可精准识别多层薄膜、复合涂层的界面缺陷、内部夹杂，攻克透明介质内部结构难检测的行业难题。

• 双成像模式一机多用：支持OPD相位成像、三维形貌重构双模式，可同步完成微观成像、平整度检测、相位分析、缺陷统计，功能全面。

• 智能稳定易操作：精简光路结构，运行稳定、重复性高；配套智能软件，一键自动成像、分析、归档，适配量产质检与科研场景。

技术参数

• 成像原理：光波动场波面重构、光程差相位检测

• XY视野范围：700μm × 700μm

• XY分辨率：691nm（单次拍照）、488nm（图像合成）

• Z轴深度分辨率：10nm（相位检测模式）

• Z轴测量范围：±700μm

• 光源参数：638nm激光器，Class1安全等级，输出≤0.39mW

• 样品移动平台：自动XY微动台（±10mm）、粗动台（X129mm/Y85mm）

• 最大样品尺寸：100×80×20mm（标配样品座）

• 设备外形尺寸：505(W)×630(D)×439(H)mm（不含电脑及配件）

• 成像模式：OPD相位成像、三维形貌重构、全域快速扫描

• 核心特性：免对焦、数字重聚焦、无标记无损检测、全域三维成像

主要检测对象