日本VACUUM DEVICE 大腔体实验室溅射镀膜机 日本VACUUM DEVICE MSP-40Tマグネトロンスパッタ装置是一款升级款大腔体台式磁控溅射薄膜沉积设备，专为中大尺寸试样、批量样品镀膜实验场景研发。设备沿用品牌成熟的真空控制系统与稳定的等离子体溅射工艺，相较于常规小型溅射设备，本机大幅扩容腔体空间、升级样品承载结构，兼顾单一样品高精度镀膜与多样品批量加工需求。

日本 VACUUM DEVICE 磁控溅射装置 镀膜机 日本 VACUUM DEVICE MSP-20UM（マグネトロンスパッタ装置）为原装台式磁控溅射设备，依托成熟真空与等离子控制技术，面向实验室薄膜试样制备开发。设备腔体容量更大，样品承载能力更强，可稳定实现多种靶材薄膜沉积，膜层均匀、工艺重复性好。

日本VACUUM DEVICE 高精度SEM样品镀膜机 日本VACUUM DEVICE MSP-1S（マグネトロンスパッタ装置）是一款紧凑型台式直流磁控溅射装置，专为实验室精密样品镀膜、电镜样品前处理、纳米薄膜制备场景量身打造。设备搭载日系成熟真空控制系统与低压磁控溅射核心技术，集成内置真空泵一体化结构，无需外接复杂真空设备，安装摆放灵活、操作极简。

日本VACUUM DEVICE 小型台式磁控溅射镀膜机 日本 VACUUM DEVICE（真空デバイス）MSP-mini 小型磁控溅射装置，为桌面型科研用薄膜沉积设备。采用磁控溅射原理，在真空腔体内将靶材原子溅射沉积到样品表面，制备金属、合金、氧化物等各类薄膜。设备体积小巧，操作门槛低，适合高校、材料研究所开展材料表面改性、SEM 样品喷金、功能薄膜小样试制。