日本 TECNOS 热氮气加热器 HOT N2
日本 TECNOS 热氮气加热器，是专门针对氮气介质开发的气体加热设备，可将高纯氮气精准加热至设定温度，输出稳定的高温氮气气流。结构洁净无油污，不会污染管路与工件，温控精度高，升温响应快，广泛应用于半导体、电子制程、清洗、干燥、吹扫、回流助焊等工艺。

日本 TECNOS 热氮气加热器 HOT N2

日本 TECNOS 热氮气加热器 HOT N2

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产品介绍

日本 TECNOS 热氮气加热器，是专门针对氮气介质开发的气体加热设备，可将高纯氮气精准加热至设定温度，输出稳定的高温氮气气流。结构洁净无油污，不会污染管路与工件，温控精度高，升温响应快，广泛应用于半导体、电子制程、清洗、干燥、吹扫、回流助焊等工艺。

特点

1. 专为氮气加热设计，流路洁净构造，适配高纯氮气，无杂质析出，适合洁净制程。

2. 高精度温度控制，温度稳定，温度波动小，可满足工艺恒温要求。

3. 升温速度快，热响应灵敏，可快速达到目标温度。

4. 内部加热元件隔离设计，氮气与发热体合理布局，无局部过热，防止氮气劣化。

5. 内置多重安全保护：过热保护、断流保护、异常报警，断气时可防止干烧损坏。

6. 体积紧凑，可直接集成在产线工装、腔体吹扫工位，安装便捷。

7. 支持连续长时间运行，适合自动化产线不间断吹扫、干燥工序。

8. 可选多种出气规格、流量范围，匹配小流量精密工艺到大流量吹扫场景。

用途

1. 半导体、FPC、PCB 制程氮气热风干燥、溶剂吹扫。

2. 晶圆、光学零件、精密元器件清洗后热风烘干。

3. 焊锡、助焊工艺高温氮气氛围供给，防氧化。

4. 实验室、研发设备恒温氮气环境供给。

5. 薄膜、涂布工艺氮气吹扫、固化辅助加热。

HOT N2ヒーターの設置効果