日本 ADVANCE RIKO 台式灯加热设备
MILA‑5000 系列是台式卤素灯快速加热热处理装置，采用卤素灯辐射加热，实现极快升 / 降温速率，属于小型 RTP 快速退火设备。腔体可实现真空、惰性气氛环境，适用于小尺寸样品的退火、烧结、氧化、脱胶等实验处理，广泛用于新材料、半导体、陶瓷、薄膜材料的实验室研发。

日本 ADVANCE RIKO 台式灯加热设备

日本 ADVANCE RIKO 台式灯加热设备

日本 ADVANCE RIKO，MILA‑5000 シリーズ，台式红外灯加热炉，快速升温热处理装置，灯式快速退火炉 RTP

产品介绍

MILA‑5000 系列是台式卤素灯快速加热热处理装置，采用卤素灯辐射加热，实现极快升 / 降温速率，属于小型 RTP 快速退火设备。腔体可实现真空、惰性气氛环境，适用于小尺寸样品的退火、烧结、氧化、脱胶等实验处理，广泛用于新材料、半导体、陶瓷、薄膜材料的实验室研发。

MILA-5000系列具备红外金相炉的诸多优点：能够实现快速加热/冷却，同时还能进行清洁式加热。它可以在不同的气氛环境中进行加热，是一款结构紧凑、价格低廉的红外灯加热装置，其温度控制器与气氛控制模块为一体设计。
通过USB连接，可在电脑上完成加热操作，从而方便地管理相关数据。

产品特点

• 可选择真空、气体、气体流动状态或大气环境等任意氛围

• 精确的温度控制

• 台式设计，结构紧凑

• 可以通过您手中的电脑轻松设置温度程序，以及输入外部信号。

• 可以将加热过程中的温度数据显示在电脑上。

技术参数

※1：真空排气装置为可选配置
※2：加热温度会因被加热物体的红外反射/吸收特性、热容量以及材质的不同而有所差异。

主要用途

• 强介电体薄膜的晶体退火

• 离子注入后的扩散退火、氧化膜生成退火

• 硅、化合物晶圆的烧结、配向处理

• 玻璃基板的均匀热处理

• 热循环、热冲击、热疲劳试验

• 升温脱理试验用加热炉

• 催化效应试验