日本大明化学 高纯度氧化铝研磨球 TB系列
日本大明化学 TB 系列高纯度氧化铝球，为 4N 级高纯 α 氧化铝陶瓷微珠，提供 Φ0.1mm、Φ0.2mm、Φ0.3mm、Φ0.4mm、Φ0.5mm 多种粒径规格。采用等静压成型 + 低温烧结工艺，晶粒细小均匀，放射性杂质极低，是纳米粉体超细研磨、解团聚专用研磨介质。

日本大明化学 高纯度氧化铝研磨球 TB系列

日本大明化学 高纯度氧化铝研磨球 TB系列

日本大明化学 TB 系列，高纯度氧化铝球，TAIMEI 氧化铝研磨珠，Φ0.1~0.5mm 陶瓷研磨介质，纳米粉体分散球，低污染氧化铝微珠，锂电 / MLCC 超细研磨介质

产品介绍

日本大明化学 TB 系列高纯度氧化铝球，为 4N 级高纯 α 氧化铝陶瓷微珠，提供 Φ0.1mm、Φ0.2mm、Φ0.3mm、Φ0.4mm、Φ0.5mm 多种粒径规格。采用等静压成型 + 低温烧结工艺，晶粒细小均匀，放射性杂质极低，是纳米粉体超细研磨、解团聚专用研磨介质。比重相比氧化锆珠更轻，研磨作用力柔和，可减少粉体晶体损伤，同时磨损率低，大程度降低研磨过程引入杂质，适合砂磨机、珠磨机进行粉体湿法超细研磨与分散作业。

特点

1. 超高纯度，低杂质污染：氧化铝纯度≥99.99%，铀、钍放射性元素含量极低，钠铁等金属杂质控制严格，避免污染电子、锂电粉体。

2. 超细粒径梯度齐全：Φ0.1~0.5mm 多规格可选，微小珠体单位体积接触点多，可实现纳米级粉体解团聚，出料 D50 可达 50~200nm。

3. 高硬度耐磨：莫氏硬度 9，耐磨性能优异，研磨损耗低，使用寿命长，减少介质更换频次。

4. 轻量化研磨介质：密度约为氧化锆珠的 2/3，磨机填充重量轻，降低设备负载与能耗，减少粉体过度冲击损伤。

5. 耐酸碱腐蚀：在酸性、碱性浆料环境下稳定性好，高温研磨工况性能不易衰减。

6. 球形度高，粒度分布窄：球体圆润，粒径一致性好，研磨分散均匀，粉体粒度分布更窄。

参数

产品型号：TB 系列 

品牌：大明化学（TAIMEI） 

产品名称：高纯度氧化铝球 

材质：α-Al₂O₃氧化铝

纯度：≥99.99% 

规格：Φ0.1mm、Φ0.2mm、Φ0.3mm、Φ0.4mm、Φ0.5mm 

莫氏硬度：9 

表观密度：3.9g/cm³ 

放射性控制：U ≤ 4 ppb，Th ≤5 ppb 

产地：日本 

备注：TB-01=Φ0.1mm，TB-02=Φ0.2mm，TB-03=Φ0.3mm，TB-04=Φ0.4mm，TB-05=Φ0.5mm

用途

广泛应用于 MLCC 电子陶瓷、锂电池材料、精细陶瓷、荧光粉、光刻胶、油墨、牙科陶瓷、半导体粉体等领域。用于纳米磷酸铁锂、硅碳负极、导电剂、陶瓷粉体的超细研磨与终段解团聚；新材料研发实验室小试、中试砂磨分散，实现高纯粉体的精细化制备，控制粉体粒度，保障粉体纯度不受研磨介质污染。