日本 Die-Gate 标准S型 实验室涂布试验机
日本 Die-Gate S 型标准机，为兼顾研发试验与少量生产的狭缝式涂布机。采用狭缝挤出涂布工艺，浆料或溶液通过模头缝隙均匀挤出，在基材表面形成连续均匀薄膜。既可用于新材料配方、涂布工艺的前期研发摸索，也可承接小批量样品试产，实现从实验室试样到小量产的连贯工艺验证。

日本 Die-Gate 标准S型 实验室涂布试验机

日本 Die-Gate 标准S型 实验室涂布试验机

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产品简介

日本 Die-Gate S 型标准机，为兼顾研发试验与少量生产的狭缝式涂布机。采用狭缝挤出涂布工艺，浆料或溶液通过模头缝隙均匀挤出，在基材表面形成连续均匀薄膜。既可用于新材料配方、涂布工艺的前期研发摸索，也可承接小批量样品试产，实现从实验室试样到小量产的连贯工艺验证。

产品特点

小型、轻量化 | 超小型、轻量化设计，涂装部与控制部一体化结构

涂料用量 | 实现液体零浪费

基材吸附 | 开口仅5μm的吸附盘、吸附标记及无干燥不均现象

液体交换 |液体更换时间仅需1-5分钟

 操作便捷性 | Daiset组件安装便捷，前开式设计便于操作

重现性 | 结构简单，可重复性高

设计美学 | 可适配多种涂装液设计方案

技术参数

适用基材：玻璃、薄膜、金属箔、树脂板、金属纤维；

涂布宽度：0.3mm~300mm（需更换模具头）；

涂布厚度：Wet1 μ~1500μ（根据厚度范围更换模具）；

粘度范围：1~150,000 mPa（根据粘度范围更换模具唇）；

涂布速度：2mm~300mm/sec

应用

Wet-On-Wet 涂布工艺、采用双狭缝的双层同步涂布工艺、间歇式图案涂布工艺、条纹涂布工艺（条纹宽度 Min 0.3 mm）、两种涂料同步独立挤出涂布工艺、迷你帘式涂布工艺、浸渍/半浸渍涂布工艺、双面涂布工艺、Roll-To-Roll 涂布工艺

适用材料：

记录介质、彩色记录介质、碳墨、陶瓷硬涂层、有机EL、导电涂料、绝缘涂料、超导体（正极/负极材料）、热塑性树脂、UV固化树脂、疏水剂、液晶、蓄电池、AR/AG、碳纳米管、AG纳米线、太阳能电池