日本 ELENIX X射线光电子能谱仪 PAS Ⅳ J
ELENIX PAS Ⅳ J 是日本 ELENIX 推出的桌面型 X 射线光电子能谱仪（XPS），主打材料研发场景，是适合实验室使用的紧凑型表面分析设备。设备利用 X 射线照射样品激发光电子，通过检测光电子能量，解析样品最表层（数纳米深度）的元素组成、元素化学价态。

日本 ELENIX X射线光电子能谱仪 PAS Ⅳ J

日本 ELENIX X射线光电子能谱仪 PAS Ⅳ J

ELENIX，PAS Ⅳ J，PASⅣJ，XPS，光电子能谱，表面分析，元素定性定量，化学态分析，薄膜，粉体表面，材料研发，研究開発に最適なツール

产品介绍

ELENIX PAS Ⅳ J 是日本 ELENIX 推出的桌面型 X 射线光电子能谱仪（XPS），主打材料研发场景，是适合实验室使用的紧凑型表面分析设备。设备利用 X 射线照射样品激发光电子，通过检测光电子能量，解析样品最表层（数纳米深度）的元素组成、元素化学价态。固体、薄膜、压片粉体样品均可测试，无需大型实验室改造，设备体积紧凑，操作门槛低。可实现元素定性、半定量分析、化学态分峰解析，是电池材料、高分子、涂层、陶瓷、粉体表面改性研究的有力分析工具。整套设备包含 X 射线源、能量分析器、超高真空腔体、样品台、控制解析软件。

产品特点

• 日本 ELENIX PAS Ⅳ J，专为材料研究开发设计的台式 XPS 光电子能谱系统。

• 可分析样品表面数纳米薄层，检测除 H、He 以外所有元素，同时解析元素化学价态。

• 兼容多种样品形态：固体块材、薄膜、压片粉体、涂层试样，适配粉体表面改性评估。

• 紧凑型整机设计，相比大型 XPS 占地更小，对实验室基建要求低，适合研发实验室。

• 操作简化，配套专业分析软件，自动采集谱图、定性检索、半定量计算、化学态分峰拟合。

• 超高真空腔体，降低表面污染干扰，保证谱图稳定性与测试重复性。

• 样品更换便捷，支持多点定位分析，可对比样品不同区域表面成分差异。

• 维护成本低，适合高校、企业研发实验室开展新材料表面机理研究。

技术参数

产品用途

ELENIX PAS Ⅳ J XPS 光电子能谱仪广泛用于锂电 / 固态电池材料、粉体表面改性、陶瓷、薄膜涂层、高分子材料、催化材料、腐蚀材料研发。用于粉体表面包覆层成分分析、颗粒表面化学价态表征；薄膜界面元素分析；评估表面改性工艺效果；解析材料表面官能团、化学键变化，支撑材料表面机理研究、配方开发与失效分析。