日本 ICC UCR‑150N‑S 极低温反应设备 日本 ICC（创造化学研究所）UCR‑150N‑S 台式极低温反应机，采用斯特林密闭氦气电制冷，无需干冰、液氮、冷媒介质，替代传统干冰‑丙酮低温浴。温控区间‑100℃～+50℃，PID 精密控温，支持干浴铝块冷却、湿式浴槽两种模式，30 分钟可抵达‑80℃，可长时间通宵连续运行。

日本放电精密 ZENFormer型 放电成形压力机 以“具备与工业机械相当的高精度”为设计理念而开发的直动式数字伺服压力机“ZENFormer”，凭借新技术实现了并行控制，同时还达到了纳米级别的高精度加工水平。

美国 LINDE TAFA 等离子喷涂设备 溶射机 美国 LINDE（林德 AMT）TAFA Plasma Systems 是一套完整大气等离子喷涂（APS）工艺成套设备，由等离子喷枪、电源、送粉器、气体控制系统、冷却单元组成整套解决方案。利用等离子电弧产生超高温等离子焰流，熔化粉末状态的陶瓷、金属、金属陶瓷粉末，高速喷射到工件表面形成功能涂层。

日本COAKEN CR‑3 陶瓷棒材喷涂设备 溶射机 陶瓷棒喷涂工艺（洛凯德工艺）是一种利用乙炔/氧气燃烧火焰进行陶瓷喷涂的技术。用于喷涂的陶瓷材料呈棒状，常见的有氧化铬、氧化铝和氧化锆。其中，采用洛凯德工艺喷涂出的氧化铬涂层，其性能被认为优于等离子喷涂所形成的涂层。 CR-3型材料输送机构由电机驱动，通过变频器来调节其转速。

日本 MINO 美浓窑业 台式前开门高速电炉 日本 MINO（美浓窑业）台式前扉式高速电炉，是台式小型箱式高温热处理炉，前开门式炉门结构，搭载高速升温加热组件，体积紧凑放置于实验台面即可使用。可实现快速升温，用于各类小试样的烧结、退火、脱蜡、灰化等热处理作业，操作简单，占用空间小，适合研发实验室、高校、企业研发部门做小批量试样工艺试验。

日本电炉工业 陶瓷静电吸盘 倒立式气氛炉 日本 NIHON‑DENRO（日本電炉工業）倒立式气氛炉，专门面向半导体陶瓷静电吸盘（ESC）开发的间歇式高温气氛烧成炉。采用倒立吊装结构，工件从上向下吊入炉腔，有效避免工件自重造成翘曲变形，同时防止炉内灰尘掉落污染陶瓷工作面，保障静电吸盘平面度与绝缘性能。

日本 SANVAC 小型高温真空炉 陶瓷金属 日本 SANVAC（株式会社サンバック）小型高温真空炉，面向科研实验室开发的紧凑型高真空热处理设备，主要用于小尺寸试样在真空环境下完成烧结、退火、脱气等热处理工序。具备高速升温能力，极限可达高真空环境，炉体体积小巧，对场地占用小，适配新材料研发、陶瓷、金属、硬质材料小试样工艺试验，也可通入惰性保护气氛使用。

日本 DOWA 高温真空脱脂烧结炉 A/B/C系列 这是一种适用于超硬合金、稀土磁体以及精细陶瓷烧结的高温真空烧结炉。通过使用减压气流，可实现从脱脂到预烧结、最终烧结再到冷却的整个流程的自动化处理。这是一台兼具可靠性、质量、经济性及生产效率的真空炉。